Semikonduktor Fused Silica Wafer Quartz Glass

Semikonduktor Fused Silica Quartz Glass wafer

spesifikasi
spesifikasi yang dirancang untuk kebutuhan unik Anda termasuk, tanda pelurusan, lubang, kantong, profil tepi, ketebalan, kerataan,
kualitas permukaan, kebersihan, atau detail lain yang penting untuk aplikasi Anda.Kami juga menawarkan wafer ini dalam beragam pilihan
bahan termasuk Borosilikat, Aluminosilikat, Fused Silica (bukan kuarsa), Quartz dan Soda Lime.
Berikut ini menjelaskan keserbagunaan dalam beberapa proses utama kami.Untuk detail lengkap tentang prosesnya, silakan hubungi kami
bebas mendapatkan informasi lebih lanjut.

Proses

Potongan Bentuk

Lembaran tipis digores, lembaran tebal disiram air dan balok digergaji kawat untuk memulai proses dengan wafer "kosong".

Tepi CNC

Setiap wafer bermata satu per satu pada Precision CNC Edge Grinding Station.

Memukul

Sesuai kebutuhan, wafer disusun dengan ketebalan atau kerataan yang tepat.

pemolesan

Pemoles Komersial dua sisi menghilangkan kerusakan di bawah permukaan dan Super Polish menciptakan hasil akhir yang murni.

Pembersihan

Kami menggabungkan ultrasonik dan megasonik pada beberapa jalur pembersihan yang mengalirkan langsung ke Ruang Bersih Kelas.

Inspeksi

Di Ruang Pembersih Optik Kelas 100 kami, kami memeriksa berbagai tingkat kualitas di bawah kondisi pencahayaan yang sesuai.

Kemasan

Semua wafer dikemas dalam wadah yang telah dibersihkan sebelumnya, dikantongi ganda dan disegel vakum di dalam Ruang Bersih Kelas 100.