-
Kaca Kuarsa Optik
-
Mesin Kaca Kuarsa
-
Tabung Kaca Kuarsa
-
Tabung Kapiler Kuarsa
-
Tabung Kaca Borosilikat
-
Batang Kaca Kuarsa
-
Suku Cadang Laser
-
Target Sputtering Silikon Dioksida
-
Aparat Kuarsa
-
Piring Kaca Kuarsa
-
Bagian Kaca Kustom
-
Bagian Keramik Kustom
-
Peralatan Manufaktur Optik
-
Mesin Pembuat Penutup Kaca Seluler
-
Alat Ukur Optik
-
Kristal Optik
Substrat kuarsa kemurnian tinggi 180×15×5mm dengan ketahanan suhu tinggi
| Bahan | Silika Lebur Kemurnian Tinggi (SiO2 > 99,99%) | Ukuran | 180mm x 15mm x 5mm (P x L x T) |
|---|---|---|---|
| Suhu operasi maks | 2 antena eksternal | Permukaan Selesai | Tanah Presisi & Dipoles |
| Koefisien Ekspansi Termal | 5,5 x 10^-7 /°C (CTE Sangat Rendah) | Ketahanan Kimia | Asam Hidrofluorat, Asam Kuat & Alkali |
| Transmisi | > 92% (Rentang Sinar UV) | Pengotor Logam | Sangat Rendah, Tanpa Curah Hujan |
| Aplikasi | Lapisan Wafer Semikonduktor, Substrat Film Optik, Perlengkapan Sel PV, Platform Korosi Lab | ||
| Menyoroti | substrat kuarsa kemurnian tinggi,180×15×5mm substrat kuarsa,Substrat kuarsa tahan suhu tinggi |
||
Ikhtisar Produk
ItuSubstrat Silika Kuarsa Menyatu dengan Kemurnian Tinggiadalah pelat kaca kuarsa yang digerinda presisi (180mm x 15mm x 5mm) yang dirancang untuk aplikasi semikonduktor, pelapis optik, fotovoltaik, dan laboratorium kelas atas. Diproduksi dari silika leburan premium (SiO2 > 99,99%), substrat ini memberikan stabilitas termal, kelembaman kimia, dan kejernihan optik yang luar biasa — menjadikannya pilihan utama untuk menuntut lingkungan manufaktur dengan presisi tinggi.
Fitur Utama
- Kemurnian Sangat Tinggi:SiO2 > 99,99% dengan kandungan pengotor logam sangat rendah. Tidak ada pengendapan ion memastikan pemrosesan bebas kontaminasi untuk aplikasi semikonduktor dan optik
- Ketahanan Suhu 1100°C:Tahan terhadap panas ekstrem tanpa deformasi atau degradasi, jauh melebihi alternatif kaca borosilikat
- HF & Ketahanan Korosif Yang Kuat:Daya tahan kimia yang sangat baik terhadap asam fluorida, asam kuat, dan basa — ideal untuk proses kimia basah yang agresif
- Ekspansi Termal Sangat Rendah:CTE 5,5 x 10^-7 /°C mencegah retak dan melengkung pada siklus suhu yang cepat
- Transmisi Tinggi:> 92% transmisi melintasi spektrum UV hingga cahaya tampak, cocok untuk pelapisan optik dan aplikasi fotolitografi
- Permukaan Akhir yang Presisi:Tanah yang presisi dan permukaan yang dipoles memastikan kerataan dan deposisi lapisan yang seragam
Aplikasi
| Industri | Aplikasi |
|---|---|
| Semikonduktor & Mikroelektronika | Pembawa pengemasan wafer, substrat litografi, dasar pelapis suhu tinggi, platform uji penuaan komponen elektronik |
| Optik & Fotolistrik | Substrat pelapis film tipis optik, dasar pelat filter, perlengkapan pelapis vakum, bangku uji spektrum |
| PV & Energi Baru | Perlengkapan pelapis sel surya, difusi suhu tinggi & pembawa proses PECVD, substrat anti-deformasi |
| Lab & Kimia Halus | Platform sintering suhu tinggi, bangku uji korosi HF, pembawa reaksi kimia yang kuat |
| Instrumen Presisi | Substrat referensi spektrometer, pelat bangku peralatan inspeksi optik |
Keunggulan Kompetitif
vs. Kaca Borosilikat:Tahan melebihi batas 1100°C vs ~500°C; ketahanan asam HF yang unggul; Ekspansi termal 10x lebih rendah mencegah retak; pengotor logam yang sangat rendah menghilangkan risiko kontaminasi proses
vs.Keramik Alumina:Transparansi optik yang tinggi untuk aplikasi UV-visibel; permukaan akhir yang lebih halus untuk pelapisan yang seragam; bobot lebih ringan dan pemesinan presisi lebih mudah
Spesifikasi
| Parameter | Nilai |
|---|---|
| Bahan | Silika Lebur Kemurnian Tinggi (SiO2 > 99,99%) |
| Ukuran | 180mm (P) x 15mm (L) x 5mm (T) |
| Suhu Pengoperasian Maks | 1100°C |
| CTE | 5,5 x 10^-7 /°C |
| Transmisi | > 92% (Terlihat UV) |
| Ketahanan Kimia | HF, Asam Kuat & Alkali |
| Permukaan Selesai | Tanah Presisi & Dipoles |
| Pengotor Logam | Sangat Rendah, Tanpa Curah Hujan |

