Katoda kuarsa anti Korosi Kemurnian Tinggi dengan Ukuran Khusus Permukaan Buram

Nama Produk: Katoda Kuarsa Buram Kemurnian Tinggi dengan Ketahanan Suhu Tinggi dan Korosi
Dimensi: 95mm*91mm*44.5mm

Diproses secara integral dari kuarsa kemurnian tinggi dengan buram halus satu/dua sisi. Menampilkan ketahanan suhu tinggi, ketahanan korosi yang kuat, pengendapan logam nol, isolasi yang sangat baik, dan transmisi cahaya difus yang seragam. Banyak digunakan dalam proses pelapisan, sputtering vakum, elektrokimia, plasma laboratorium, dan optoelektronik semikonduktor:

Kimia Laboratorium dan Elektrokimia

Fitting katoda untuk ruang reaksi plasma: Basis katoda isolasi di dalam peralatan pembersih plasma vakum dan etsa ion. Permukaan buram menyebarkan berkas plasma secara merata untuk meningkatkan keseragaman reaksi.

Pembawa untuk uji elektrokimia korosif: Penyangga isolasi untuk eksperimen elektrolisis dengan elektrolit asam, basa, dan yang mengandung fluorin, mengisolasi kotoran dari elektroda logam untuk mencegah kontaminasi elektrolit.

Semikonduktor dan PV Mikroelektronik (Aplikasi Inti)

Penyangga katoda kuarsa untuk pelapisan sputtering dan PVD: Mendukung target logam dan substrat wafer. Permukaan buram melemahkan pelepasan busur lokal untuk menstabilkan keseragaman pelapisan. Bahan kemurnian tinggi menghindari pengendapan ion logam dan cacat film.

Komponen katoda isolasi di ruang vakum untuk pembuatan chip optoelektronik dan perangkat film tipis, sesuai dengan standar manufaktur elektronik ultra-bersih.

Bahan Baru dan Bahan Kimia Halus Film Tipis

Jig penyangga katoda untuk deposisi film fungsional dan nano-coating, tidak berubah bentuk dan bebas polusi dalam kondisi vakum suhu tinggi.

Basis isolasi tangki reaksi plasma untuk persiapan film konduktif baterai lithium dan film katalitik, tahan terhadap uap korosif dari prekursor.

Kondisi Pengujian Khusus Optoelektronik Vakum

Basis katoda yang cocok dengan sumber cahaya plasma UV; kuarsa buram menyebarkan cahaya UV secara merata untuk menstabilkan keluaran cahaya.

Operasi berkelanjutan pada 200~1100℃ di bawah vakum, cocok untuk proses aktivasi ion suhu tinggi dan deposisi uap suhu tinggi.