Tabung Kuarsa End Capped OD43xWall3xL495mm Kemurnian Tinggi Satu Ujung Hermetically Disegel Untuk Kabin Tabung CVD Prekursor

Tempat asal Cina
Nomor model QST-EC-43-3-495
Harga negotiable
Syarat-syarat pembayaran T/T,L/C,PayPal,Western Union
Detail produk
Bahan Kuarsa dengan kemurnian tinggi Diameter Luar 43mm
Ketebalan Dinding 3mm Total panjang 495mm
Tipe akhir Salah satu ujungnya menyatu secara hermetis Tahan suhu Hingga 1100°C
Menyoroti

Tabung Quartz End Capped

,

OD43xWall3xL495mm Tabung Quartz

,

Tabung Quartz Hermetically Disegel

Tinggalkan pesan
Deskripsi Produk

Tabung Kuarsa Bertutup Ujung OD43*Dinding3*L495mm

Tabung dengan tutup ujung kuarsa ini, berukuran OD43mm dengan ketebalan dinding 3mm dan panjang total 495mm, memiliki salah satu ujung yang menyatu secara integral dan tertutup rapat untuk pengoperasian anti bocor. Diproduksi dari kuarsa dengan kemurnian tinggi, ia menghasilkan ketahanan panas 1100°C dan ketahanan kimia HF/asam kuat yang unggul—ideal untuk sintering tungku tabung, reaksi kimia basah, penyimpanan prekursor CVD semikonduktor, penggelembungan gas, dan reaksi suhu tinggi yang disegel laboratorium.

Parameter Produk

ParameterSpesifikasi
BahanKuarsa Kemurnian Tinggi
Diameter Luar43mm
Ketebalan Dinding3mm
Panjang Total495mm
Tipe AkhirSalah Satu Ujungnya Menyatu Secara Integral Disegel Secara Hermetik
Ketahanan SuhuHingga 1100°C
Ketahanan KimiaHF dan Tahan Asam/Alkali Kuat
TransmisiTransmisi Tinggi
Kinerja PenyegelanAnti Bocor, Tutup Ujung Hermetik
KemurnianKemurnian Tinggi, Tidak Ada Curah Hujan Pengotor Logam
Stabilitas TermalLuar Biasa, Tidak Retak Di Bawah Perubahan Suhu Yang Cepat

Fitur Utama

  • Tutup Ujung Hermetik yang Menyatu Secara Integral– Salah satu ujungnya menyatu secara permanen selama pembuatan untuk membentuk penutup yang mulus dan anti bocor tanpa sambungan atau perekat yang dapat rusak dalam pengoperasian suhu tinggi.
  • Tahan Panas 1100°C– Mempertahankan integritas struktural dan stabilitas dimensi dalam kondisi sintering suhu tinggi yang berkelanjutan dalam aplikasi tungku tabung dan CVD.
  • HF & Ketahanan Kimia Yang Kuat– Lebih unggul dari kaca borosilikat, tahan terhadap asam fluorida dan asam/basa pekat untuk reaksi korosif tertutup dan pemrosesan kimia basah.
  • Kemurnian Tinggi, Tanpa Kontaminasi– 99,99% kuarsa murni dengan presipitasi pengotor logam nol, penting untuk penyimpanan prekursor tingkat semikonduktor dan pemrosesan material dengan kemurnian tinggi.
  • Ketahanan Guncangan Termal yang Sangat Baik– Tahan retak pada siklus pemanasan dan pendinginan yang cepat, memastikan layanan jangka panjang yang andal dalam siklus operasi suhu tinggi.

Aplikasi

1. Sintering Suhu Tinggi Laboratorium

Tabung reaksi tertutup untuk pengoperasian tungku listrik tabung. Sampel yang ditempatkan pada ujung yang disegel menjalani kalsinasi di bawah atmosfer gas pelindung, diisolasi sepenuhnya dari udara sekitar dan kotoran.

2. Reaksi Gelembung Basah Kimia

Wadah penggelembungan reservoir cairan tertutup tempat gas inert melewati cairan reagen untuk menghasilkan gelembung—digunakan untuk pelembapan reagen, deoksidasi bahan mentah, dan proses reaksi gas-cair.

3. Semikonduktor & Material Baru

Wadah penyimpanan tertutup bahan baku prekursor dengan kemurnian tinggi. Setelah penguapan suhu tinggi, gas pembawa mengangkut uap prekursor untuk pasokan sumber gas lapisan film tipis CVD dengan kontaminasi nol.

4. Reaksi Tertutup Cairan Korosif

Wadah anti bocor untuk asam HF dan reaksi cairan korosif pekat. Tertutup rapat untuk mencegah kebocoran tanpa pengendapan kotoran yang dapat mencemari sampel uji.

Keunggulan dibandingkan Kaca Borosilikat

Dibandingkan dengan tabung kaca borosilikat, tabung dengan tutup ujung kuarsa ini menawarkan ketahanan asam HF penuh, pengoperasian berkelanjutan pada suhu 1100°C, tutup ujung yang menyatu secara integral dengan kinerja penyegelan yang unggul, ketahanan guncangan termal yang sangat baik untuk mencegah retak, dan konstruksi dengan kemurnian tinggi yang cocok untuk pemrosesan bahan tersegel dengan kemurnian tinggi—menjadikannya pilihan pasti untuk aplikasi semikonduktor, kimia, dan laboratorium yang menuntut.